针对 PU 胶 PET 膜剥离残胶痛点，光大远以三大核心优势突围：① 分子级配方设计：引入硅烷偶联剂改性 PU 胶，降低胶层与基材的界面能，剥离功减少 40%；② 精密涂布工艺：16000㎡车间的微凹辊涂布，实现 2μm 胶层厚度的 ±0.2μm 均匀控制；③ 智能检测体系：AI 视觉检测系统实时扫描胶层缺陷，残胶率超标自动剔除。
该膜在半导体封装、新能源电池极片防护等场景中，剥离后表面离子含量＜5ppm，满足严苛洁净要求。光大远与哈工大联合研发的 “无残胶” 技术，已通过华为、比亚迪等头部企业验证，用技术创新为精密制造保驾护航。
