剥离 PU 胶 PET 保护膜时残留胶渍，是电子、光学等精密领域的常见痛点。光大远采用哈工大联合研发的 “动态解胶” 技术，通过分子级调控 PU 胶交联密度，使剥离力稳定在 15-25g/25mm 区间，残胶率＜0.01%。
核心优势在于：选用进口线性 PU 树脂，搭配纳米级释胶因子，形成 “压力敏感 - 温度激活” 双重解胶机制。16000㎡车间的精密涂布设备，实现胶层厚度误差＜0.5μm，避免局部胶量堆积。在手机屏幕拆解、光伏组件维护等场景中，该膜剥离后表面洁净度达 99.9%，无需二次清洁。
光大远 20 年保护膜研发经验，配合 ISO 9001 认证的全流程质控，让 PU 胶 PET 膜在半导体晶圆、医疗设备等领域既保持强附着力，又实现无残胶剥离，以技术实力攻克行业难题。
