当半导体工艺进入 3nm 时代，保护膜的洁净度已成为良率的关键变量。光大远高洁静度 PE 保护膜构建了从原料到交付的全链条洁净体系，其粒子控制能力达到 SEMICON F20 标准的 Class 100 级别。
洁净制造的里程碑技术
- 超纯水洗工艺：PE 粒子在去离子水中清洗 3 次，电导率＜1μS/cm；
- 磁悬浮牵引：膜片生产过程中采用磁悬浮传输，避免传统滚轮接触产生的磨损颗粒；
- 终端灭菌：出货前经电子束辐照灭菌，微生物菌落数＜1CFU/100cm²。
在某功率半导体厂商的碳化硅晶圆生产线上，该膜成功解决了传统 PE 膜的碳化硅颗粒吸附问题。对比测试显示，使用光大远 PE 膜后，外延层的缺陷密度从 200 个 /cm² 降至 20 个 /cm² 以下。
行业定制服务
- 定制附着力：提供 5-50g/25mm 全范围附着力，适配不同表面张力的半导体材料；
- 激光打孔工艺：在膜面加工 0.1mm 透气孔，解决真空环境下的气泡难题；
- 追溯系统：每卷膜配备 RFID 芯片，记录生产全流程的洁净度数据。
