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在半导体晶圆厂的百级洁净室里,一枚指纹都可能成为芯片缺陷的元凶。光大远高洁静度 PE 保护膜以 ISO 14644-1 Class 5 级洁净标准为基石,用三层洁净工艺编织出守护芯片的 无尘铠甲。
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普通磨砂膜的透光率像蒙尘的窗户,而光大远的纳米复合涂层技术,让 88-90% 的透光率成为膜面的光之河流。二氧化硅纳米粒子与硅氧烷聚合物编织的多孔网络,孔径 20-50nm 的精密结构
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总以为磨砂质感与高清显示是鱼与熊掌,直到遇见光大远三层复合结构的光学级磨砂 PET 膜。125m 的光学级 PET 基材如纯净的画布,杂质含量<0.01% 的剔透,为 89% 的透光率打下先天优势
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针对 PE 自粘膜残胶痛点,光大远以三大核心技术突围:① 分子级配方设计 :引入硅烷偶联剂改性胶层,降低界面能使剥离功减少 35%;② 精密涂布工艺 :微凹辊涂布实现 1.5m 胶层厚度
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剥离 PU 胶 PET 保护膜时残留胶渍,是电子、光学等精密领域的常见痛点。光大远采用哈工大联合研发的 动态解胶 技术,通过分子级调控 PU 胶交联密度,使剥离力稳定在 15-25g/25mm 区间,
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